Óxido de aluminio calcinado en plaquetas 3UM 5UM 7UM Alúmina en plaquetas

El polvo de pulido de alúmina calcinada en placa está hecho de polvo de alúmina industrial de alta calidad como materia prima y procesado mediante un proceso de producción especial. La forma cristalina del polvo de pulido de alúmina producido es plana, hexagonal, como una forma tabular, por lo que se llama alúmina en plaquetas o alúmina tabular.

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Introducción a la producción

La pureza de la alúmina de la placa de alúmina es más del 99% y tiene las características de resistencia al calor, resistencia a la corrosión ácida y alcalina y alta dureza. A diferencia de las partículas esféricas abrasivas tradicionales, la superficie inferior de la alúmina plana es plana y las partículas se ajustan a la superficie de la pieza de trabajo durante el pulido, lo que produce un efecto de pulido deslizante, que evita que las esquinas afiladas de las partículas rayen la superficie de la pieza de trabajo. Por otro lado, la alúmina en placa en el pulido, la presión de pulido se distribuye uniformemente en la superficie de las partículas, las partículas no se rompen fácilmente y se mejora la resistencia al desgaste, mejorando así la eficiencia del pulido y el acabado de la superficie.

Composición química

Químico Valor garantizado Valor típico
Al2O3 ≥99,0% 99,36%
SiO2 <0,2% 0,017%
Fe2O3 <0,1% 0,03%
Na2O <0,6% 0,35%

 

Propiedades físicas

Material α-Al2O3
Color Blanco
Peso específico ≥3,9g/cm3
Dureza de Mohs 9.0

 

 

Tallas disponibles

Tipo D3(um) D50 (uno) D94 (alrededor)
CA45 50,5-56,2 33-38,5 20,7-24,5
CA40 39-44,6 27,7-31,7 18-20
CA35 35,4-39,8 23.8-27.2 15-17
CA30 28.1-32.3 19.2-22.3 13.4-15.6
CA25 24.4-28.2 16.1-18.7 9.6-11.2
CA20 20.9-24.1 13.1-15.3 8.2-9.8
CA15 14.8-17.2 9.4-11 5.8-6.8
CA12 11.8-13.8 7.6-8.8 4.5-5.3
CA09 8.9-10.5 5.9-6.9 3.3-3.9
CA05 6.6-7.8 4.3-5.1 2,55-3,05
CA03 4.8-5.6 2.8-3.4 1.5-2.1

 

Aplicaciones del producto

1) Industria electrónica: rectificado y pulido de obleas de silicio monocristalino semiconductor, cristales de cuarzo, semiconductores compuestos (galio cristalino, fosfatado nano).

2) Industria del vidrio: molienda y procesamiento de cristal, vidrio de cuarzo, pantalla de vidrio de cinescopio, vidrio óptico, sustrato de vidrio de pantalla de cristal líquido (LCD) y cristal de cuarzo.

3) Industria de recubrimientos: recubrimientos especiales y cargas para proyección de plasma.

4) Industria de procesamiento de metales y cerámica: materiales cerámicos de precisión, materias primas cerámicas sinterizadas, recubrimientos de alta calidad y alta temperatura, etc.

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