Polvo de alúmina plaquetaria para pulido de semiconductores

La forma del cristal del polvo de pulido de alúmina producido es hexagonal y plana, como una forma tabular, por lo que se llama alúmina en plaquetas o alúmina tabular.

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El polvo de pulido de alúmina calcinada en placa está hecho de polvo de alúmina industrial de alta calidad como materia prima y procesado mediante un proceso de producción especial. La forma cristalina del polvo de pulido de alúmina producido es plana, hexagonal, como una forma tabular, por lo que se llama alúmina en plaquetas o alúmina tabular.

Para materiales semiconductores como obleas de silicio semiconductor, la aplicación de óxido de aluminio en placa puede reducir el tiempo de molienda, mejorar en gran medida la eficiencia de molienda, reducir la pérdida de la máquina de molienda, ahorrar mano de obra y costos de molienda y aumentar la tasa de paso de molienda.

Composición química

Químico Valor garantizado Valor típico
Al2O3 ≥99,0% 99,36%
SiO2 <0,2% 0,017%
Fe2O3 <0,1% 0,03%
Na2O <0,6% 0,35%

 

Propiedades físicas

Material α-Al2O3
Color Blanco
Peso específico ≥3,9g/cm3
Dureza de Mohs 9.0
Tipo D3(um) D50 (uno) D94 (alrededor)
CA45 50,5-56,2 33-38,5 20,7-24,5
CA40 39-44,6 27,7-31,7 18-20
CA35 35,4-39,8 23.8-27.2 15-17
CA30 28.1-32.3 19.2-22.3 13.4-15.6
CA25 24.4-28.2 16.1-18.7 9.6-11.2
CA20 20.9-24.1 13.1-15.3 8.2-9.8
CA15 14.8-17.2 9.4-11 5.8-6.8
CA12 11.8-13.8 7.6-8.8 4.5-5.3
CA09 8.9-10.5 5.9-6.9 3.3-3.9
CA05 6.6-7.8 4.3-5.1 2,55-3,05
CA03 4.8-5.6 2.8-3.4 1.5-2.1

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